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產品名稱:

半導體行業專用氮氣發生器(腔體保護氣,干泵吹掃氣)

半導體行業專用氮氣發生器(腔體保護氣,干泵吹掃氣)NITROGEN-M-100/200采用膜分離技術,無須二次凈化,即可連續獲得潔凈、干燥、無鄰苯二甲酸酯的氮氣,氮氣純度和流量穩定,使用壽命長。
更新時間: 2023-11-24

產品概述

半導體行業專用氮氣發生器(腔體保護氣,干泵吹掃氣)

NITROGEN-M-100/200

Peculiar針對LC/MS 氮氣流量、純度、壓力的特殊要求專門設計了安全、高效、方便的專用于

PECULIAR(UK)INSTRUMENT     TECHNOLOGY     LIMITED 英國普拉勒科技有限公司LC/MS 氣發生器,產生純度高達99.5%的潔凈、干燥氮氣,符合半導體行業腔體保護氣,干泵吹掃氣

要求,包含APCI及ESI接口。氮氣發生器采用膜分離技術,無須二次凈化,即可連續獲得潔凈、干

燥、無鄰苯二甲酸酯的氮氣,氮氣純度和流量穩定,使用壽命長。外置渦旋壓縮機提高了空氣供應

的安全性,流速范圍從0-100L/min, 可同時為一臺或多臺儀器供應氮氣。特殊機型可以定制,最

大流速范圍可以達到200 L/min。

 

主要技術參數 |

MAIN          TECHNICAL          PARAMETERS

◎流量:0-100/200L/min  @100psi(7bar)

◎工作環境:5C-40℃   濕度80%

◎使用最高海拔:2200m

◎露點:<-55℃

◎顆粒:<0.01μm

◎滯留液體:無

◎鄰苯二甲酸:無

◎噪聲:<47dB(A)

◎開機純化時間:30min

◎功率:8000W

◎電力要求:220V 50Hz


 

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